CIQTEK lancia la soluzione a doppio raggio wafer da 8 pollici per osservazione a grandezza naturale, taglio di precisione ed elaborazione completa

Con l'avanzare della produzione di semiconduttori verso nodi di processo più raffinati, l'analisi dei difetti a livello di wafer, l'individuazione dei guasti e la fabbricazione micro-nano sono diventati fondamentali per migliorare la resa. CIQTEK introduce il Soluzione di elaborazione full-size a doppio raggio da 8 pollici , combinando imaging ad alta risoluzione ed elaborazione precisa del fascio di ioni per ottenere un "taglio di osservazione-analisi" sull'intero wafer, fornendo un solido supporto tecnico per processi avanzati di semiconduttori.

Questa soluzione è dotata di un portacampioni ad alta precisione a corsa lunga da 150 mm, che consente l'osservazione e l'elaborazione non distruttive dell'intero wafer da 8 pollici. Grazie a un sistema di navigazione ottica esterno e ad algoritmi anticollisione intelligenti, garantisce un posizionamento rapido e preciso del wafer e un funzionamento sicuro. Il sistema è dotato di un cannone elettronico a emissione di campo Schottky, con una risoluzione di 0,9 nm a 15 kV e una risoluzione del fascio ionico di 3 nm a 30 kV, in grado di rilevare difetti, sezionare sezioni trasversali e fabbricare microstrutture su scala nanometrica.

Vantaggi principali:

• Fase di corsa da 150 mm:

• • Combina lunga escursione con elevata precisione per un ampio raggio di osservazione.

  • Ottima compatibilità con apparecchi di diverse dimensioni.

  • La struttura robusta garantisce la stabilità del wafer e un caricamento rapido e affidabile.

• Scambio rapido da 8 pollici:

  • Design intelligente con base scorrevole per garantire stabilità e durata.

  • Compatibilità full-size: supporta wafer da 2/4/6/8 pollici.

  • Sostituzione rapida dei campioni: pompaggio del vuoto e caricamento del campione in un minuto.

• Software e anticollisione:

• • Navigazione intelligente completamente automatica con movimento e posizionamento precisi.

  • Movimento coordinato multiasse per l'osservazione dell'intero wafer.

  • Anti-collisione intelligente: simulazione della traiettoria e calcoli spaziali algoritmici per evitare rischi.

  • Monitoraggio multiplo in tempo reale: monitoraggio multi-angolo in tempo reale della posizione del wafer.

• Navigazione ottica esterna:

  • La struttura ultra stabile elimina le vibrazioni dell'immagine.

  • Immagini ad alta definizione con un campo visivo preciso per la visualizzazione full-wafer.

  • L'illuminazione professionale antiriflesso riduce i riflessi sulla superficie del wafer.

Campo di osservazione del wafer

Soluzione di microscopio elettronico a doppio fascio CIQTEK combina hardware eccezionale con sistemi software intelligenti, consentendo un rilevamento efficiente dei difetti e l'ottimizzazione dei processi tramite la regolazione della luminosità e del contrasto con un clic, la messa a fuoco automatica e l'output di immagini multiformato, consentendo agli utenti di completare l'intera catena di attività, dalla scoperta dei difetti all'ottimizzazione dei processi.